集成电路（IC）设计是现代电子工业的核心环节，涉及从抽象功能描述到物理实现的复杂过程。它通常通过多个设计视图来管理不同抽象层次的信息，确保设计效率与准确性。主要设计视图包括：行为视图、结构视图和物理视图。

行为视图聚焦于系统的功能描述，使用硬件描述语言（如Verilog或VHDL）定义电路的逻辑操作与时序关系，不涉及具体硬件实现。这一阶段验证功能正确性，是设计的起点。

结构视图将行为描述转换为逻辑门或晶体管级别的互连结构，体现组件之间的拓扑关系。通过逻辑综合工具，行为代码被映射到标准单元库，生成网表文件，为后续布局布线奠定基础。

物理视图则处理几何布局，包括晶体管、互连线的位置、尺寸及层次规划。该视图需考虑制造工艺约束、功耗、信号完整性和散热等因素，通过EDA工具进行布局优化和验证，最终生成可用于光刻的GDSII文件。

多视图协同确保了集成电路从概念到芯片的高效转化。随着工艺节点微缩，设计视图的整合与验证变得愈发关键，推动着EDA技术和设计方法的持续创新。